PIRNA (dpa-AFX) - De omliggende steden en gemeenten bereiden een studie voor om de uitdagingen aan te pakken die de verhuizing van de Taiwanese chipfabrikant TSMC naar Dresden met zich meebrengt. Het doel is om het potentieel voor residentiële en commerciële ontwikkeling uit te werken en de regionale samenwerking tussen Dresden en het omliggende gebied te intensiveren, zo kondigde het district Sächsische Schweiz-Ost-Ertsgebergte dinsdag aan.
Ontwikkelingspotentieel in de omgeving
Een tijdelijke werkgroep "Regio Dresden" moet de onderzoeken en de voorbereidingen voor de institutionalisering begeleiden. De districten Bautzen, Meißen en Sächsische Schweiz-Osterzgebirge evenals 21 steden en gemeenten in deze districten zijn betrokken bij deze werkgroep. Volgens de aankondiging zal Sächsische Schweiz-Osterzgebirge 10.000 euro bijdragen.
"De nabijheid van de hoofdstad van de deelstaat geeft ons district de kans om ook van positieve effecten te profiteren," zei districtsbestuurder Michael Geisler (CDU). "Bestaande industrieterreinen kunnen profiteren van de verplaatsing van toeleveranciers en een impuls geven aan de infrastructurele ontwikkeling van gemeenschappen buiten het gebied."
2000 banen gecreëerd door verhuizing TSMC
TSMC kondigde ongeveer een jaar geleden aan dat het tegen 2027 een halfgeleiderfabriek zou bouwen in Dresden. De fabriek wordt gebouwd als joint venture met Bosch, Infineon en NXP Semiconductor onder de naam European Semiconductor Manufacturing Company (ESMC) op het industrieterrein Airportpark, waar Bosch al microchips produceert. Er zullen 2000 nieuwe banen worden gecreëerd.
Met het "Silicon Saxony"-netwerk is de Vrijstaat volgens het Ministerie van Economische Zaken al het grootste micro-elektronicacentrum van Europa. Elke derde chip die in de EU geproduceerd wordt, komt uit Saksen. Ongeveer 3.650 bedrijven, waaronder Infineon en Globalfoundries, zijn actief in de regio. Tot 2030 zullen er naar verwachting 20.000 nieuwe banen worden gecreëerd als gevolg van onder andere de verhuizing van TSMC./jbl/DP/men