ASML bereikt 'eerste licht' mijlpaal op eerste High NA EUV-gereedschap

ASML heeft "het eerste licht" bereikt op haar enorme nieuwe High NA EUV-lithografiesysteem, bevestigde de Nederlandse fabrikant van halfgeleiderapparatuur op woensdag, een mijlpaal die betekent dat het systeem werkt, maar nog niet op volle kracht.

Het hoofd technologische ontwikkeling bij Intel, Ann Kelleher, noemde de vooruitgang voor het eerst tijdens een toespraak op de SPIE lithografieconferentie op dinsdag in San Jose.

ASML bevestigde dat de opmerkingen van Kelleher juist waren.