Dai Nippon Printing Co., Ltd. is begonnen met de ontwikkeling van een fotomasker productieproces voor 2-nanometer (10-9 meter) generatie logische halfgeleiders die Extreme Ultra-Violet (EUV) lithografie ondersteunen, het geavanceerde proces voor de productie van halfgeleiders. DNP zal ook optreden als onderaannemer en de nieuw ontwikkelde technologie leveren aan Rapidus Corporation (Rapidus) uit Tokio. Rapidus neemt deel aan het onderzoeks- en ontwikkelingsproject van de verbeterde infrastructuur voor post-5G informatie- en communicatiesystemen van de New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO).

Het bedrijf heeft zijn vermogen om geavanceerde halfgeleiders te produceren met een hoge productiviteit en kwaliteit versterkt. En in 2016 was DNP de eerste fabrikant ter wereld die het multi-beam mask writing tool (MBMW) introduceerde. In 2023 voltooide DNP de ontwikkeling van een fotomaskerproductieproces voor EUV-lithografie van de 3-nm-generatie en begon met de ontwikkeling van technologie voor de 2-nm-generatie.

In antwoord op de behoefte aan verdere miniaturisatie zal het bedrijf in het boekjaar 2024 beginnen met de ontwikkeling op volledige schaal van een fotomaskerproductieproces voor EUV-lithografie van de 2-nm-generatie, inclusief de ingebruikname van tweede en derde multi-elektronenbundellithografiesystemen. DNP is van plan om zijn tweede en derde MBMW-maskerlithografiesystemen in boekjaar 2024 in gebruik te nemen, waardoor de ontwikkeling van fotomaskers voor de 2-nm generatie EUV-lithografie wordt versneld. DNP zal optreden als onderaannemer voor Development of Advanced Semiconductor Manufacturing Technology (in opdracht van Rapidus) als onderdeel van het eerder genoemde R&D-project van NEDO.

In het boekjaar 2025 zal DNP de ontwikkeling afronden van een productieproces voor fotomaskers voor 2-nm generatie logische halfgeleiders die EUV-lithografie ondersteunen. Vanaf boekjaar 2026 gaat het bedrijf verder met de ontwikkeling van productietechnologie om in boekjaar 2027 met massaproductie te beginnen. Het bedrijf is ook begonnen met de ontwikkeling met het oog op de 2-nm generatie en verder, en heeft een overeenkomst getekend met imec, een toonaangevende internationale onderzoeksorganisatie met hoofdkantoor in Leuven, België, om samen EUV-fotomaskers van de volgende generatie te ontwikkelen.

DNP zal blijven bijdragen aan de groei van de Japanse halfgeleiderindustrie door ontwikkeling te stimuleren in samenwerking met verschillende partners binnen het kader van de internationale halfgeleiderindustrie.