HPQ Silicon Inc. heeft aandeelhouders geïnformeerd dat het in Lyon gevestigde, gelieerde bedrijf NOVACIUM SAS ("Novacium") een patentaanvraag heeft ingediend voor een autonoom waterstofproductiesysteem met een lage koolstofvoetafdruk, op basis van chemicaliën, on-demand en onder hoge druk. Het nieuwe waterstofproductiesysteem maakt gebruik van een chemisch proces om waterstof vrij te maken uit specifieke goedkope, koolstofarme en ongevaarlijke legeringen. Bovendien bereikt de waterstof die door het chemische proces wordt geproduceerd direct de drukniveaus die in de industrie gebruikelijk zijn, van 200 tot 1000 bar.

In tegenstelling tot traditionele waterstofproductiesystemen op basis van elektrolyse, werkt het proces van Novacium zonder de noodzaak van elektriciteit, uitgebreide opslag en complexe transportinfrastructuur, waardoor het een echt autonome oplossing biedt. Het proces met twee toepassingen, dat ontworpen is voor militair en civiel gebruik, voorziet in de behoefte van potentiële klanten aan een autonoom waterstofproductiesysteem met een lage koolstofvoetafdruk, on-demand, onder hoge druk dat overal ter wereld kan worden ingezet, zelfs buiten het elektriciteitsnet, met veiligheid als topprioriteit. Het lijdt geen twijfel dat waterstof een belangrijke rol kan spelen bij het koolstofvrij maken van de economie, dankzij de emissieloze eigenschappen en de hoge energie-gewichtsverhouding.

In 2021 was echter minder dan 1 miljoen ton (Mt) van de totale vraag naar waterstof afkomstig van emissiearme bronnen, terwijl de rest geproduceerd werd uit onverminderd fossiele brandstoffen.