HPQ Silicon Inc. heeft zijn aandeelhouders op de hoogte gebracht van een recente patentaanvraag in verband met zijn "Initiatief voor anodemateriaal op basis van silicium". HPQ diende een nieuwe voorlopige patentaanvraag in Frankrijk in voor een continu productieproces van siliciumoxide (SiOx) op basis van een gewijzigd PUREVAPTM QRR-ontwerp. Volgens de Franse wet verwierf HPQ alle rechten van de uitvinders voor CAD 90.000,00. Het octrooi beschermt een unieke configuratie van de QRR-technologie die de productie van SiOx op dezelfde apparatuur mogelijk maakt.

Het nieuwe geoctrooieerde proces heeft een belangrijk voordeel ten opzichte van het standaardproces, omdat het een continue productie van SiOx mogelijk maakt, terwijl laatstgenoemd proces in batches wordt geproduceerd. Het voorgestelde proces kan op de QRR worden toegepast zonder grote veranderingen in het reactorontwerp, waardoor de technologische ontwikkelingsrisico's kleiner worden. Daarnaast is het vermeldenswaard dat de prijs van SiOx ongeveer 2 tot 3 keer zo hoog is als die van silicium met dezelfde zuiverheid.

Siliciumsubboxiden (SiOx) zijn een veelbelovend anodemateriaal met een hoge lithiumopslagcapaciteit. Het toevoegen van kleine hoeveelheden siliciumoxide aan grafietcomposietelektroden is een belangrijke trend geworden in de industrie voor lithiumbatterijen. Dit heeft de vraag naar silicium anodematerialen gestimuleerd, die naar schatting een potentiële vraag van 300.000 ton zal bereiken tegen 2030.

De verkoopprijs voor anodematerialen op basis van silicium varieert van USD 30 per kg tot USD 50 per kg.